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適用于H?、 Ar、He、Ne、 Kr、Xe。獨(dú)家專用技術(shù)脫除原料氣中的O?、CO、H?、N?、CO?、H?O、CH4、碳?xì)浠衔镏罰Pb級(jí)。
※HPC終端OM系列純化器采用吸氣劑(GATTER)為消耗型填料,不可再生(可有限次激活)。吸氣反應(yīng)器設(shè)計(jì)使用壽命為2~3年,失效后整體更換。用戶為減少gatter消耗,可加預(yù)處理系統(tǒng)。
產(chǎn)品特點(diǎn) :
◆脫除雜質(zhì)深度高
◆吸附容量大, 使用時(shí)間長(zhǎng)相比國(guó)內(nèi)現(xiàn)有的純化工藝,HPC –OM型純化技術(shù)不釋放碳?xì)浠衔?,常溫工作,?jié)能環(huán)保。非消耗型純化材料,降低成本,純化深度高,使用壽命長(zhǎng)。
◆可激活 HPC-M系列所用純化材料為鎳觸媒催化劑,非消耗材料,可再生循環(huán)使用,成本低。初始調(diào)試后直接使用。
◆應(yīng)用范圍廣
應(yīng)用領(lǐng)域:
MOCVD,MBE(化合物半導(dǎo)體工業(yè))、
SOI(硅晶體生長(zhǎng))、
LED(半導(dǎo)體照明)
IC(大規(guī)模集成電路)
PV(光伏太陽(yáng)能)
氣體凈化、
光學(xué)纖維生產(chǎn)、
惰性氣體激光器、
氣相色譜儀等
光刻
零點(diǎn)氣純化
高純度焊接
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