擴散爐--高溫擴散爐,臥式擴散爐,晨立簡單介紹:
擴散爐--高溫擴散爐,臥式擴散爐,晨立
設備用途:用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光 電器件、光導纖維等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝。
設備特點:單元組合方式。根據工藝的不同,可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈工作臺、懸臂推拉舟等。
主要技術指標:
★ 爐管數:1~4管
★ 配工藝管口徑:Φ90~360 mm (3~12英寸)
★ 恒溫區(qū)長度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃) 760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃)
★ 單點穩(wěn)定性: ±1.0℃/24h (300~800℃) ±0.5℃/24h (800~1280℃)
★ 氣源路數: ≤7路,可配恒溫源瓶、氫氧合成點火器
★ 氣體控制: 浮子/質量流量計
★ 懸臂舟參數: 速度: 20~1000 mm/min 最大行程:2000 mm 定位精度:±1 mm 最大載荷:17 Kg
★ 超凈工作臺: 凈化等級:100級(萬級廠房)
噪音: ≤62dB(A)
振動: ≤3μm
晨立最新擴散爐設備新鮮出爐,技術和質量已達國際水平,受到半導體設備制造企業(yè)和半導體行業(yè)高度關注.可完全替代國外同規(guī)格高端產品滿足不同工藝的要求.
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