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最大樣品尺寸	4英寸（直徑20mm）
控溫范圍	RT~1200℃
升溫速率(max)	50℃/s
高溫段降溫速率（max）	600℃/min
溫度均勻性	≦1%
控溫精度	±0.1℃
氣體流量	標(biāo)配1路，可擴(kuò)展至多路
放樣管徑	Ф210mm*320mm
放樣數(shù)量	4-10個(gè)
真空度	真空度可以達(dá)到10-5
控制方式	支持真空、氧化、還原、惰性氣體等工藝氣氛，也可設(shè)置通過(guò)軟件控制真空及通氣時(shí)間

HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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金屬合金;

熱氧化處理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

太陽(yáng)能電池片退火;高溫退火;

高溫?cái)U(kuò)散。

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化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

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化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

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