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單晶片狀氧化鋁基材

單晶片狀氧化鋁物相純 α-氧化鋁也稱剛玉，莫氏硬度 9，是硬度僅次于鉆石的高硬度物質(zhì)，耐磨性好熔點高達(dá) 2000-2030℃，可在 1200℃ 長期使用，耐高溫且化學(xué)性能穩(wěn)定該片狀氧化鋁是單晶材料，直徑及厚度可依據(jù)需要進(jìn)行可控制備，調(diào)整范圍：厚度可調(diào)范圍 180-380nm，向尺寸 D50 范圍18-24um，厚比可調(diào)范圍80-100，具有典型的片狀形貌特征純度高透光性好表面光滑平整、比表面大，獨特的片狀結(jié)構(gòu)在溶液中有很好的分散和懸浮效果。基于以上特征的片狀氧化鋁基材還屬于比較新穎的材料，片狀氧化鋁在眾多行業(yè)的應(yīng)用為空白，我們現(xiàn)在已經(jīng)掌握了該項技術(shù)，可提供出質(zhì)量穩(wěn)定的公斤級實驗基

單晶片狀氧化鋁在以幾個領(lǐng)域具有較強(qiáng)的應(yīng)用前景：

1 達(dá)克羅涂層——目前的達(dá)克羅涂層由鱗片狀的鋁、鋅、無機(jī)酸、有機(jī)料組，主要依靠進(jìn)口而耐磨性和硬度均有待改進(jìn)，片狀氧化鋁因優(yōu)異的耐磨特性在該領(lǐng)域?qū)⒂袕V闊的應(yīng)用前景

2 作為高級拋光材料——可制成氧化鋁拋光液，憑借具有較高的拋光速率和高的硬度，因其片狀結(jié)構(gòu)特征可較好解決分散穩(wěn)定性不好、易團(tuán)聚等缺陷，在 CMP（ Chemical Mechanical Polishing ）拋光液中有很好的應(yīng)用前景

3 作為增強(qiáng)材料——在氧化鋁陶瓷領(lǐng)域添加片狀氧化鋁可提高試樣的強(qiáng)度

4 作為高級涂料的組分——有耐溫性和耐磨性要求的。如飛機(jī)、高速列車、高級跑車、航空航天器件表面的涂層

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單晶片狀氧化鋁研究中心 閩江學(xué)院單晶片狀氧化鋁研究中心成立于2016年1月，旨在通過加強(qiáng)單晶無機(jī)材料領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新能力的建設(shè)，促進(jìn)科技成果轉(zhuǎn)化，提高現(xiàn)有科技成果的成熟性、配套性和工程化水平，為企業(yè)規(guī)?；a(chǎn)提供技術(shù)支撐，促進(jìn)科技創(chuàng)新體系的建設(shè)。同時尋求相關(guān)企業(yè)期許實現(xiàn)該技術(shù)的規(guī)模化生產(chǎn)，實現(xiàn)良好的經(jīng)濟(jì)和社會效益。

單晶片狀氧化鋁基材厚度可調(diào)范圍 180-380nm 閩江學(xué)院研究中心

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