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1.拋光:用于制備CMP拋光液,用于硅單晶片、砷化鎵片、藍(lán)寶石晶片、半導(dǎo)體化合物晶片、硬盤盤片、寶石、液晶玻璃、鏡頭、金屬表面等產(chǎn)品的拋光。
2.催化劑載體、數(shù)碼印刷等。
二.性能指標(biāo)
指標(biāo)名稱 |
型號(hào)及標(biāo)準(zhǔn) |
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LS30 |
LS50 |
LS80 |
LS100 |
LS120 |
LS150 |
|
粒徑(nm) |
30-40 |
50-60 |
80-90 |
100-110 |
110-120 |
140-160 |
SiO2含量 |
30-50% |
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分散介質(zhì) |
水 |
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pH值 |
2-11(可定制) |
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分散狀態(tài) |
單分散 |
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膠粒形態(tài) |
球形 |
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保質(zhì)期(月) |
≥12 |
三.用于拋光液的使用方法
建議用去離子水將濃度稀釋至10-20%,也可根據(jù)實(shí)際工藝要求改變配比,若要調(diào)節(jié)pH值,可以用10%
HCl,3%NaOH,5%KOH或者10%氨水在充分?jǐn)嚢柘侣稳搿?/span>
四.包裝及儲(chǔ)存
1.采用聚乙烯塑料桶包裝,主要包裝規(guī)格有25Kg、250Kg、1000Kg。
2.避免曝曬,貯存溫度為5-40℃,低于0℃則產(chǎn)生凍膠而報(bào)廢。
3.避免敞口長期與空氣接觸。
20nm激光粒度分析
50nm激光粒度分析
100nm激光粒度分析
30nm電鏡照片
50nm電鏡照片
100nm電鏡照片
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