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    包郵 關(guān)注:1853

    RIR離子刻蝕機

    應用于半導體行業(yè):

    半導體二手設備-二手芯片制造前段設備

    庫       存:

    80

    產(chǎn)       地:

    全國

    數       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體二手設備-二手芯片制造前段設備


     Samco International是始于1979年的等離子蝕刻與沉積系統制造商;日本最大的客制Plasma和Deposition設備供應商;日本京都、美國硅谷、英國劍橋、中國上海、臺灣和東南亞都有我們的設備和服務(wù)支持。Samco International為混合半導體、MEMS(微機電系統)、光電、失效分析以及其他市場(chǎng)制造各種各樣的系統。我們的產(chǎn)品在業(yè)內以系統占地面積最小、性?xún)r(jià)比最低著(zhù)稱(chēng),且生產(chǎn)可靠性久經(jīng)考驗。從整套生產(chǎn)需要工具、到簡(jiǎn)單的實(shí)驗室系統,Samco International均有提供。
        反應性離子蝕刻,簡(jiǎn)稱(chēng)為RIE,最為各種反應器廣泛使用的方法,便是結合(1)物理性的離子轟擊與(2)化學(xué)反應的蝕刻。此鐘方式兼具非等向性與高蝕刻選擇比等雙重優(yōu)點(diǎn),蝕刻的進(jìn)行主要靠化學(xué)反應來(lái)達成,以獲得高選擇比。加入離子轟擊的作用有二:一是將被蝕刻材質(zhì)表面的原子鍵結破壞,以加速反應速率。二是將再沉積于被蝕刻表面的產(chǎn)物或聚合物(polymer)打掉,以使被蝕刻表面能再與蝕刻氣體接觸。
     RIE-10NR反應離子蝕刻設備特點(diǎn):
           1. 高選擇性各向異性腐蝕,符合苛刻的制程要求;
           2. 全自動(dòng)"一鍵"操作完全代替手動(dòng)操作;
           3. 易于使用的電腦觸摸屏的參數控制和配方輸入和存儲;
           4. 晶圓尺寸達8"英寸直徑,圓滑、緊湊的設計使用最少的潔凈室空間;
           5. RIE-10NR設計用于蝕刻氮化物、氧化物和任意需要氟基化學(xué)的薄膜或基片。其安裝在節省空間的平臺上的模塊化設計,使其成為全世界許多用戶(hù)的首選系統;
           6. 高級選項:ICP(電感耦合等離子)、渦淪泵、帶背側氦冷卻系統和端點(diǎn)檢測系統的靜電吸盤(pán)等;
           7. 業(yè)已全面開(kāi)發(fā)出各種工藝,用于對使用氟基化學(xué)的材料進(jìn)行各向同性和各向異性蝕刻,其中包括:碳、環(huán)氧樹(shù)脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、光阻劑、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢鈦以及鎢。

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    4001027270

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