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    包郵 關(guān)注:1439

    團簇型多室CVD沉積系統主要用于非晶硅太陽(yáng)能電池的研究和制作

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-其他

    產(chǎn)品品牌

    北京北儀

    規格型號:

    團簇型多室CVD沉積系統

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-北京市

    數       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    10000.00
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:北京北儀

    型號:團簇型多室CVD沉積系統

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-其他

    團簇型多室CVD沉積系統 北京北儀
    • 團簇型多室CVD沉積系統應用范圍:主要用于非晶硅太陽(yáng)能電池的研究和制作
    • 團簇型多室CVD沉積系統技術(shù)特點(diǎn):能在真空環(huán)境下連續處理多種CVD工藝過(guò)程
    • 團簇型多室CVD沉積系統主要技術(shù)參數:


    • 團簇型多室CVD沉積系統

      Cluster Multi-chamber CVD Deposition System

       

      技術(shù)參數Parameter

      真空室尺寸

      Vacuum chamber size

      主真空室尺寸:Server chamber

      Φ760×270mm

      工作真空室尺寸:

      Workstation chamber

      PECVD

      250×250×300mm

      VHFCVD

      510×250×300mm

      HWCVD

      550×250×300mm

      進(jìn)出片室尺寸;Loading chamber

      250×286×300mm

      主真空室工位數:

      Server position of server chamber

      6

      工作真空室數:

      Number of Workstation chamber

      5

      真空系統

      Vacuum system

      傳輸室:Server chamber

      F150+D30C

      工作真空室:

      Workstation chamber

      F100+D30C

      進(jìn)出片室:Loading chamber

      D30C

      極限壓力

      Ultimate pressure

      傳輸室:Server chamber

      5×10-4Pa

      工作真空室:

      Workstation chamber

      5×10-5Pa

      進(jìn)出片室:Loading chamber

      5×10-1Pa

      工件尺寸

      Substrate size

      工件最大尺寸:

      Maximum diameter

      100×100mm

      工件最大重量:Maximum weight

      2kg

      最大同時(shí)處理數量:

      Maximum loading capacity

      4

      操作

      Operation

      全自動(dòng)+計算機流程控制

      Fully automatic computer control

      PLC控制

      PLC control

      氣路控制系統

      Gas system

      全套進(jìn)口件氣路  16路進(jìn)口流量計  進(jìn)口變通導閥門(mén)

      9路氣體(N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2

      imported gas path,16-ways imported MFC,imported alterable valve 9 routes

      (N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO)

      

       北京北儀創(chuàng )新真空技術(shù)有限責任公司(原北京儀器廠(chǎng))創(chuàng )建于1954年,總部位于中央商務(wù)區(CBD)的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開(kāi)發(fā)區,占地面積31064平方米,建筑面積45504平方米。2003年通過(guò)ISO-2000質(zhì)量體系認證。共有真空獲得、真空測量、真空應用三大類(lèi)產(chǎn)品,從低真空到超高真空30多個(gè)系列160多個(gè)品種。產(chǎn)品廣泛地應用于航天航空、電子信息、光學(xué)產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過(guò)50多年對真空技術(shù)的探索,通過(guò)與全國多所大專(zhuān)院校、研究院所進(jìn)行的多次合作開(kāi)發(fā),以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng )新與研發(fā),北儀創(chuàng )新公司始終站在中國真空行業(yè)的前沿。
        在真空測量技術(shù)、真空獲得技術(shù)、光學(xué)多層全自動(dòng)鍍膜技術(shù)、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(shù)(DC、MC、RF濺射技術(shù))以及PECVD技術(shù)等方面處于國內領(lǐng)先,并有多項科研成果獲得國家專(zhuān)利。近年來(lái),為多個(gè)院校、研究院所開(kāi)發(fā)制造多臺用于研究薄膜太陽(yáng)能電池的實(shí)驗室設備。在擁有成熟的真空技術(shù)的基礎上,2006年北儀創(chuàng )新公司研制成功了國內首條自行設計制造的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線(xiàn),其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術(shù),用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數十平方米的雙節非晶硅薄膜的沉積,在相對低的設備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量,產(chǎn)品的性能指標達到國際同等水平,設備銷(xiāo)往廣東、福建、浙江等地區,改變了以往我國非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線(xiàn)依靠進(jìn)口的現狀。

    北儀創(chuàng )新公司一貫秉承并將繼續堅持“誠信 精益”的企業(yè)精神,不斷汲取客戶(hù)的建議及業(yè)界的先進(jìn)技術(shù),以“顧客先導 持續改進(jìn)”的價(jià)值觀(guān)在合作中實(shí)現共贏(yíng)。

     
     

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    請問(wèn)這臺機的工作電壓是幾伏的占地多大?團簇型多室有什么優(yōu)勢?

    caoweihuo  2017-07-11

    應用于半導體行業(yè)的相關(guān)同類(lèi)產(chǎn)品:

    服務(wù)熱線(xiàn)

    4001027270

    功能和特性

    價(jià)格和優(yōu)惠

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