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一、 設備的主要用途
本設備主要適用于電力電子器件、機車電子器件、傳感器件、石英晶體振蕩器、混合電器、雙向可控硅、對地放電二極管及功率半導體器件等基片正反兩面需要進行對準(套刻)的曝光。
二. 主要技術指標:
(1)本機采用雙面對準單面曝光方式。
(2)基片X、Y、θ對準工作臺,X、Y移動:±5mm,θ轉角≤±5°。
(3)基片與掩膜對準精度(包括與記憶圖形的對準精度)≤0.001mm。
(4)板架來回翻轉重復精度≤0.004mm。
(5)采用蠅眼曝光頭,曝光面積:≤Φ100mm,光的不均勻性:≤±3%,光強可調,350W直流汞燈。
(6)適用于Φ4″、Φ3″、Φ2″基片,配有三種不同的承片臺和相對應的板架。
(7)顯微系統(tǒng)放大倍數:51~323倍(連續(xù)變倍)。
三.設備的主要特點:
(1)采用計算機、軟件對版上記憶的圖形(光刻標記)對基片進行曝光。
(2)獨特的翻板機構,使上版、下版、放片、取片非常方便。
(3)版的記憶圖形、片下平面需要對準圖形在同一水平面上,排除下面二個臥式顯微鏡需要下移一個片厚而引起的誤差。
(4)本設備具備多重功能,它既是雙面曝光機,又是普通曝光機,還可當一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。
成都鑫南光機械設備有限公司是一家專業(yè)從事四川真空泵,四川光刻機,四川氫氣爐生產及銷售批發(fā)工作的企業(yè),咨詢電話:13908187709,028-85730519,擁有先進的技術裝備和獨特的設計,具有豐富的專用設備裝配調試技術和經驗。
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