雙面對準紫外光刻機

型號：URE-2000S/A型　

該機采用國內(nèi)首創(chuàng)的CCD圖像底面對準技術(shù)，單曝光頭正面曝光實現(xiàn)雙面對準的總體設(shè)計技術(shù)。采用新穎的高精度、多自由度掩模—樣片精密對準工件臺結(jié)構(gòu)設(shè)計，掩模—樣片對準過程直觀，套刻對準速度快、精度高。掩模板與樣片的放置采用推拉式基準平板、真空吸附式，操作方便。

采用專利技術(shù)——積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應和實現(xiàn)均勻照明；

1、采用三爪和球氣浮同時找平，無論大片、小片調(diào)平精度均高；  

2、具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝光，以及接近式曝光四種功能；    

3、自動分離對準間隙和消除曝光間隙，間隙分離可達500μm；  

4、高倍率雙目雙視場顯微鏡和19英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準過程，

并提供USB輸出；既滿足高精度對準，又可用于檢測曝光結(jié)果，且曝光結(jié)果和

方便存儲；  

5、電機機構(gòu)、彈性元件和傳感器保證接觸曝光壓力合適且重復性好；    

7、曝光波長采用純凈365nm,冷光照明（曝光面能量15mW/cm ，溫度小于30度）；      

8、對準完成，自動消除曝光間隙，無橫向漂移且可通過監(jiān)視器觀察；

9、快門可以單獨開啟，也可以數(shù)字設(shè)定自動倒計時曝光（設(shè)定范圍0.1s-9999.9s）；    

10、采用350W進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度；  

11、汞燈具有高亮度和“待機”兩種方式，即曝光時采用高亮度照明，而不曝光

時采用低亮度的“待機”，從而延長了汞燈壽命。      

12、設(shè)備外形美觀精制，性能非?？煽浚?/span>

13、上下片、版十分方便，自動化程度很高，操作簡便。

二．技術(shù)參數(shù)  

1、曝光面積：153mm×153mm

2、曝光波長：365nm

3、分辨力：0.8µm（膠厚1.5um的正膠）    

4、對準精度：單面±0.8µm，雙面±2.5µm

5、掩模尺寸：3寸、4寸、5寸、7寸

6、承片臺：2寸、3寸、4寸、6寸

7、樣片尺寸直徑Ф30mm--Ф150mm(可適應非標準片或碎片)   厚度0.1mm-6mm(可擴展為15mm)

8、照明均勻性：±3%（Ф100mm范圍）±5%（Ф150mm范圍）

9、掩模相對于樣片運動行程：  X:±5mm;  Y:±5mm; θ: ±6度

10、汞燈功率：1000W（直流　德國歐司朗長壽命型）

11、曝光方式：定時（到計時方式0.1s—9999.9s任意設(shè)定）

12、最大膠厚：500um

13、光源平行性：6度

14、雙目雙視場顯微鏡：物鏡三隊：4X、10X、20X，目鏡三對：10X、16X、20X

應用領(lǐng)域

集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統(tǒng)、微光學元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等