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    BG-401A曝光機（光刻機）

    產(chǎn)品品牌

    國產(chǎn)

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：國產(chǎn)

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-其它光刻設(shè)備

     BG-401A曝光機（光刻機）

     

     


    BG-401A曝光機（光刻機）
    產(chǎn)品描述

    BG-401A曝光機（光刻機）主要用于中小規(guī)模集成電路、聲表面波器件和其它各種半導(dǎo)體元器件制造工藝中的單面對準及曝光。最大兼容4英寸晶圓。

     

    主要技術(shù)特點

    對準工作臺：
    對準精度高，漂移小。精密楔形誤差補償機構(gòu)實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩模版使用壽命。                        

    曝光系統(tǒng)：
    采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學(xué)件，具有較高的光強、均勻性、光學(xué)分辨率。

    分離視場顯微鏡：
    在X、Y方面進行大范圍掃描觀察，可進行單視場或雙視場切換，提高對準效率和套準精度，同時兼容CCD成像顯示功能。

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