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    ABM-LED光刻機（標準型） 怡合瑞豐

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    怡和瑞豐

    規(guī)格型號：

    ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    美國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    ￥10000.00
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    品牌：怡和瑞豐

    型號：ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    ABM-LED光刻機（標準型） 怡合瑞豐



                            設備型號：ABM/6/350/NUV/DCCD/M

    ABM-LED光刻機（標準型）適用于藍光LED、紅光LED、綠光LED、白光LED、綠光LED、TFT-LCD光刻，OLED光刻的研發(fā)和生產(chǎn)，ABM-LED光刻機（標準型）具有高穩(wěn)定性、堅固耐用、性能卓越等突出特點。因此被大多數(shù)研發(fā)機構和生產(chǎn)企業(yè)所青睞。

    光學系統(tǒng)：

     曝光時間調解器：0.1至999.9秒(可調節(jié)精度0.1s)
     365-400nm光強傳感及電源供應控制電路及反饋閉環(huán)；
     聲控功率警報裝置可防止系統(tǒng)功率超過設定指標；
     有安全保護裝置的溫度及其氣流傳感器；
     全景準直透鏡光線偏差半角: <1.84度；
     波長濾片檢查及安裝裝置
     抗衍射反射功能高效反光鏡；
     二向色的防熱透鏡裝置；
     防汞燈泄漏裝置；
     配備蠅眼棱鏡裝置
     配備近紫外光源
        --365 nm 輸出強度 – 大約 18-20 mW/ cm2
        --400 nm 輸出強度 – 大約 30-35 mW/ cm2

    主要配置：

     6“光源系統(tǒng)
     配置2英寸或4英寸卡盤
     手動系統(tǒng)（半自動系統(tǒng), 自動對準系統(tǒng)可選）
     支持電源350w
     90-600倍連續(xù)放大CCD（方便LED基片對準）
     棱鏡對準裝置，使最小雙視場對準縮小為10mm(支持LED碎片光刻）

    主要性能指標：

     光強均勻性Beam Uniformity:：
       --<±1% over 2” 區(qū)域
       --<±2% over 4” 區(qū)域
       --<±3% over 6” 區(qū)域
         接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um
     支持接近式曝光，特征尺寸CD：
         --0.8um 硬接觸 
        --1um    20um 間距時
        --2um    50um 間距時
         正面對準精度 ±0.5um
     支持LED優(yōu)異電流控制技術PSS工藝光刻
     支持真空、接近式、接觸式曝光
     支持恒定光強或恒定功率模式

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