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德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng)

科研/生產兼用

簡介：

PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

特點：

· 高效的大面積亞微米-納米圖形化設備

· 操作簡單、工作穩(wěn)定，兼容科研及批量生產

· 納米周期性圖案解決方案

優(yōu)勢：

· 大面積圖形化設備：適用4、6、8寸襯底

· 高曝光效率：非步進式曝光，無拼接，單次全場曝光實現整片圖形化

· 高精度：光學衍射自成像原理，突破傳統(tǒng)曝光精度極限

· 非接觸式曝光

· 設備沒有景深限制，曝光過程無需對焦

· 雙工作模式（UV375機型）：高分辨模式（周期性納米-微米結構），一般紫外光刻模式（非周期結構）

· 設備采用通用的商業(yè)光刻膠，根據客戶的圖形，提供工藝技術支持。

PhableR 100革新性紫外光刻機

技術指標：

光源	UV375nm	DUV266nm	DUV193nm
分辨率	125nm	75nm	62nm
周期范圍	250-3000nm	150-2500nm	125-2000nm
操作方式	手動裝片-自動曝光
參數設置	觸摸屏
基片尺寸	最大4、6、8英寸（尺寸向下兼容）

PhableR 100 晶圓級光子學結構的曝光工具

應用：

· 圖形化藍寶石襯底（PSS）

· DFB布拉格光柵

· 減反層圖形

· 顯示濾光片Color Filter

· 線柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）

· 光子晶體

· 磁性納米結構

· 太陽能光伏

· 生物傳感器

· AR、VR技術

德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng)

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