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熱絲CVD金剛石設備 高精度薄膜 性?xún)r(jià)比高 熱絲CVD金剛石設備 高精度薄膜 性?xún)r(jià)比高
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低壓化學(xué)氣相沉積法 代加工 低壓化學(xué)氣相沉積法 代加工
設備名稱(chēng):低壓化學(xué)氣相沉積法(LPCVD)用途:干氧SiO2,濕法SiO2,SiNx生長(cháng),更好的成膜致密性技術(shù)指標:1、溫度:300~1100℃
等離子體增強化學(xué)氣相沉積 鍍膜代加工 等離子體增強化學(xué)氣相沉積 鍍膜代加工
設備名稱(chēng):等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD) 沉積SiO2、SiNX薄膜、不含H的SiNX薄膜、SiNOx薄膜
英國HHV科研用真空鍍膜系統 Auto500
英國HHV科研用真空鍍膜系統Auto500適合研究開(kāi)發(fā)需求的多功能系統平臺Auto500是一套多功能的真空鍍膜系統平臺,主要用于科學(xué)研究
硬質(zhì)氧化膜再生修復 硬質(zhì)氧化膜再生修復
我司運用特殊工藝技術(shù)對半導體零部件刻蝕腔體腐蝕修復再生氧化鋁膜,使用效果能達到原新產(chǎn)品90%以上,保護退膜打磨保護氧化封閉
氧化膜修復 氧化膜修復
半導體生產(chǎn)線(xiàn)上關(guān)鍵部件,我公司成熟工藝對產(chǎn)生磨損或腐蝕的部分進(jìn)行氧化修復,使該零件回復使用,極大降低生產(chǎn)成本,氧化質(zhì)量保
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氧化鋁膜再生 氧化鋁膜再生
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